NEXIV VMR-10080

長大ストロークタイプ

1000×800mmの長大ストロークで、大型の基板、
液晶用部品などの高精度測定に威力を発揮します。

■標準モデル

• 被検物に応じて選べる3つの倍率タイプを用意
• 立体部品にも余裕をもって対応できる、50mmの長作動距離
• 15倍ズーム比により、低倍時の広視野と高倍時の高精度を両立
• 表面形状に依存しない高精度AFを実現する高速TTLレーザAF

【測定対象】基板用印刷マスク、マザー基板

■TZモデル（高倍率タイプ）

• 120×の光学倍率で、微小線幅も測定可能
• 高NAかつ微小スポットの高精度TTLレーザAF
• 長大ストロークかつ超高倍測定を実現

【測定対象】液晶ガラス基板（パターン測定）、有機ELガラス基板（パターン測定）

■LUモデル（ユニバーサル照明／電動レボルバタイプ）

• 明視野、暗視野、微分干渉、簡易偏光観察に対応
• 5ヶ孔電動ユニバーサルレボルバにより測定をスピードアップ
• CFI60システムの豊富に揃った対物レンズが使用可能
• 観察、測定からデータ処理まで、CNC自動リプレイ機能で制御可能

【測定対象】大型フラットパネルディスプレイ

■　主な仕様

本　体　部
モデル		VMR-10080		VMR-10080TZ	VMR-10080LU
ストローク（X×Y×Z）		1000 × 800 × 150mm		高倍対物使用時： 1000 × 800 × 150mm 低倍対物使用時： 950 × 800 × 150mm	1000 × 800 × 150mm
最小表示単位		0.1μm
被検物最大質量		40kg
測定精度	U1X, U1Y	2 + 4L / 1000μm （被検物質量40kg時）
	U2XY	3 + 4L / 1000μm （被検物質量40kg時）
Z軸測定精度（レーザAF使用時）		1.5 + L / 150μm
カメラ		白黒： 1/3型CCD （プログレッシブスキャン）、カラー： 1/3型CCD（オプション）
作動距離		50mm		高倍対物使用時：9.8mm 低倍対物使用時：32mm	組み合わせ対物レンズによる
倍率／視野		タイプ1	0.5 ～ 7.5×／9.33×7～0.622×0.467mm	1～120×／4.67×3.5～ 0.039×0.029mm	組み合わせ対物レンズによる
		タイプ2	1～15×／4.67×3.5～0.311×0.233mm
		タイプ3	2～30×／2.33×1.75～0.155×0.117mm
オートフォーカス		TTLレーザAF ／ イメージAF			イメージAF
照明		透過、垂直落射、8分割LEDリング照明（中入射角／大入射角）		垂直落射、透過（高倍ヘッドのみ）、暗視野照明	透過照明、垂直落射照明（明視野または暗視野）
供給電源		AC100V±10%、50 / 60Hz
消費電流		13A		15A	13A
寸法（W×D×H） /質量	本体	–
	本体＋測定台	1530 × 2200 × 1750mm ／ 約1500kg
	コントローラ	250 × 550 × 500mm ／ 約31kg
設置寸法（W×D）		2800 × 2500 mm
ホスト　コンピュータ
本体		IBM PC / AT互換機 (Windows®XP)
CRT		20型TFTカラー