・「落下・堆積粒子」による
付着異物を常時監視
リアルタイムで発塵を監視
製造環境と製品への直接的な堆積リスクを数値化
背景
あらゆる業界でクリーンな製造環境が求められるなか、多くの企業では粒子汚染が今もなお、永遠の課題として残留し続けています。粒子汚染の中でも、「粒子堆積」による汚染は、空気清浄度の測定や顕微鏡による分析・組成解析だけでは本質的な課題解決には至りません。この汚染リスクを低減するには、「いつ」粒子が落下堆積したかを特定する”時間的要素”、そしてリスク強度を示す”堆積数”を伴うリスクアセスメントが必要です。
製品について
APMONは、ヒトやシステムの活動に起因する15µm以上の堆積粒子を最短5分間隔で計測します。汚染の原因となる「不適切な挙動」をリアルタイムで監視し、「いつ」「どのくらい」堆積させているかを数値化します。
技術特性
測定技術・関連規格
・ISO14644-3
・ISO14644-17
測定範囲
- 15 ～ 1000µｍ
測定原理
検出部の大きさが特長 レーザーホログラフィック方式
センサ上部に設置されたカートリッジにレーザー光を透過させ、堆積した粒子の数や大きさを測定間隔ごとに計数します。粒子径は、回折通過したレーザー光の波形を元に粒子の形状を検出し、フーリエ変換法で回折パターンを実像化します。
センサで実像化されたデータは、本体で粒子数や粒子径などに変換され、ディスプレイに表示されます。センサと本体の接続は有線・無線が選択でき、センサ専用バッテリも付属しているため、遠隔監視も可能です。
測定結果の表示
不適切な「挙動」を最短５分で検出
クリーン環境の汚染リスクアセスメントに最適な新しい監視技術
APMONは、粒子堆積が増加する瞬間(パーティクルイベント)をリアルタイムで監視します。これにより、ヒト、システムや清掃行為といった発塵源の「不適切な挙動」を検出し、その発塵量と粒度分布を数値化することができます。ISO14644-17では、このパーティクルイベントと関連付けられた挙動の制御方法を検討し改善することを、5μm以上の粒子を低減させる方法として規格化しています。APMONは、空気中から落下・堆積する割合が50％以上とされる、15µｍ以上の粒子を検出します。
■時間に対する落下した粗大粒子（＞15µm）の数
落下粒子の粒度分布を分析・評価し、製造ラインの清浄度改善に取り組む
カートリッジ上に堆積した粒子は、粒径分布としてグラフ化することができます。15 ～ 30µmはヒトの皮膚片やセルロース片、100µm以上は衣服繊維などが要因と推定されます。30µm以下は、気流で改善されることもありますが、製造現場への「入退出手順」や「活動制限」による改善（絶対数の削減）から優先的に取り組むことが、目標清浄度を達成する近道です。50µm以上の粗大粒子が検出される場合には、「清掃を最適化」し、製造環境をキレイにする必要があります。
■堆積粒子の粒径分布
アプリケーション
粒子堆積率をアセスメントして「粗大粒子」対策を
APMONはパーティクルイベントの検出の他、製造環境中に堆積する粒子の濃度変化・粒径分布・占有率変化などの把握や、「汚染に脆弱な表面」に堆積する「粗大粒子」の許容濃度（個数 / 面積）を決定することができます。さらに、この許容値を超えた場合、関連する「挙動」や「表面清浄度(SCP*)」に実験的な変化を与えることで、粒子堆積率(PDR*)の低減につながる実証改善が行えます。クリーンルーム内のあらゆる表面（ヒト、ウエア、装置、部材、ツールなど）から、表面清浄度モニタ PartSensの数値をもとに”除去効果が実証された清掃”によって低減させ、クリーンルーム内の「行動規律」をAPMONで整備していくことが、「粗大粒子」のリスクアセスメントです。
■粒子の「持ち込み」「発塵」をAPMON/PartSensで数値化する
*SCP: Surface Cleanliness by Particle Concentrationの略称。（関連規格:ISO14644-9、-13)
*PDR: Particle Deposition Rateの略称。（関連規格:ISO14644-3、-17）
